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| 真空鍍膜機(jī)操作步驟？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-12-16 瀏覽： 次 |
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1.清洗前，看片子是否短路，是否大小與樣品托合適，蒸鍍時(shí)放樣品托的架子升最高，且旋轉(zhuǎn)。 2.打開電流開關(guān)，及時(shí)打開ABC舟中一個(gè)，打開束源爐，及時(shí)打開其中一個(gè)啟動A、B等。 3.摻雜材料用量覆蓋舟底即可。 操作步驟： 1、打開總開關(guān)，包括冷卻水開關(guān)和機(jī)器開關(guān)。 2、打開鍍膜機(jī)總開關(guān)，樣品旋轉(zhuǎn)開關(guān)，升降開關(guān)按鈕。 3、將玻璃基板至于樣品托中，導(dǎo)電一面向下。 4、蒸鍍室、預(yù)處理室放氣。 5、打開蒸鍍室與預(yù)處理室之間的閘板閥(順時(shí)針方向關(guān)，逆時(shí)針方向開)，推拉桿推至大真空室中，將樣品放到推拉桿上，將推拉桿拉回至預(yù)處理中。關(guān)閉閘板閥(順時(shí)關(guān)閉，逆時(shí)針開) 6、打開快門控制電源，打開快門一，更換鎢絲(每做一次實(shí)驗(yàn)更換一次)，將鋁絲掛在鎢絲上(5個(gè)，掛于彎折處)，檢查蒸鍍所需材料。 7、將掩膜版放置于掩膜版架上。 8、打開機(jī)械A(chǔ)、機(jī)械B泵。打開四個(gè)真空計(jì)，關(guān)閉放氣閥。 9、基片預(yù)處理(打開角閥)：當(dāng)處理室真空度達(dá)到4.0E1 (4.0×10)Pa 時(shí)關(guān)閉預(yù)角閥，打開大真空室角閥，再打開紫外轟擊電源(直流濺射電源)，調(diào)節(jié)電流0.025-0.030A。轟擊10-15分鐘(等預(yù)處理室與蒸鍍室氣壓平衡，打開閘板)。 10、插入樣品托：再次打開蒸鍍室與預(yù)處理室之間的閘板閥(順時(shí)針方向開，逆時(shí)針方向關(guān))，將樣品傳送至蒸鍍室，用機(jī)械手抓取樣品托，并保持在機(jī)械手上;然后將將推拉桿拉回至預(yù)處理中，關(guān)閉閘板閥;降低蒸鍍臺(注意樣品托擋板位置)與機(jī)械手平齊，將樣品托輕輕推入蒸鍍臺下方的樣品托導(dǎo)引槽(上方導(dǎo)引槽)。 11、插入掩模板：將樣品升降電源調(diào)到手動，將蒸鍍臺旋轉(zhuǎn)180度(用皮帶精確定位)，用升降盒使蒸鍍臺最下方的掩模板導(dǎo)引槽與掩膜版庫軌道，至于同一水平線上，用機(jī)械手將掩膜版輕輕推至蒸鍍臺的掩 模板導(dǎo)引槽。 12、當(dāng)大真空室的壓強(qiáng)為1.2E1的時(shí)候，關(guān)閉角閥，打開閘板閥。 13、關(guān)閉機(jī)械泵A，升起樣品臺。 14、打開分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要兩個(gè)小時(shí))。 15、蒸鍍過程：打開快門總開關(guān)，晶振開關(guān)(F1是清零，F(xiàn)5是開始或停止)。 16、打開PID(束源爐)開關(guān)，調(diào)節(jié)溫度，依次蒸鍍相關(guān)材料，制備OLED器件。 17、關(guān)閉分子泵閥門，放氣(真空室頂部放氣按鈕)。打開真空室，取出樣品。 18、關(guān)閉真空室，待分子泵數(shù)字為零時(shí)關(guān)閉分子泵后關(guān)閉機(jī)械泵B，打開機(jī)械泵A的閥門，打開機(jī)械泵A抽低真空。如果長時(shí)間不用時(shí)一定要關(guān)閉循環(huán)水冰柜電源，以防凍裂。
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