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| 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)及缺點(diǎn)? |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-12-02 瀏覽： 次 |
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電子束蒸發(fā)源是利用熱陰極發(fā)射電子在電場作用下成為高能量密度的電子束直接轟擊到鍍料上。動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱能，使鍍料加熱汽化，完成蒸發(fā)鍍膜。 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)： 1、電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發(fā)速率; 2、被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內(nèi)，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜; 3、電子束蒸發(fā)粒子動(dòng)能大，有利于獲得致密、結(jié)合力好的膜層。 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的缺點(diǎn)： 1、結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，設(shè)備價(jià)格較貴; 2、若蒸發(fā)源附近的蒸氣密度高，電子束流和蒸氣粒子之間會(huì)發(fā)生相互作用，電子的通量將散失和軌道偏移;同時(shí)引起蒸氣和殘余氣體的激發(fā)和電離，會(huì)影響膜層質(zhì)量。 本文由真空鍍膜機(jī)(http://m.bnzr.net.cn)廠家收集整理，僅供真空愛好者學(xué)習(xí)交流，本站不具有版權(quán)! 推薦閱讀 |
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