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| 陰極電弧技術在真空鍍膜設備中的運用 |
| 發布時間：2014-10-24 瀏覽： 次 |
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真空鍍膜機的陰極電弧技術是利用真空環境下的弧光放電，使固體陰極靶材蒸發、離化并通過等離子體的強化作用，飛向陽極基體表面沉積成膜的技術。 正因為如此，陰極電弧技術具有極高的沉積速率。在含有惰性氣體或反應氣體的真空環境下沉積在基體表面，具有高能量的離子束對于提高膜基結合力和打亂膜的柱狀晶結構是非常有利的，從而也可大幅度改善膜的組織結構和力學性能。 目前，各薄膜設備制造商通過對成膜原理和工藝的研究采用各種不同的措施來減少“液滴”的產生。 推薦閱讀 |
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