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真空鍍膜機檢漏方法介紹
發布時間:2014-08-20 瀏覽:  次

  真空計是測量真空度或氣壓的儀器。

  一般是利用不同氣壓下氣體的某種物理效應的變化進行氣壓的測量。

  1、用電離計檢漏時,示漏物質應選用電離效果與殘余氣體有盡可能大差異者,電離效果包括電離幾率及電離電位兩者的綜合結果,一般用氫,氦,氬,二氧化碳等。

  2、用熱真空計檢漏時,示漏物質可用氫,二氧化碳,丙酮,乙醚,酒精等。一般說來,用氣體噴吹比用液體覆蓋為好,因為液體往往會堵塞漏孔,還會污染真空系統或器件,熱真空計因為慣性大,反映慢,檢漏時巡噴速度不宜過快,并要仔細觀察,認真判別是系統的壓強波動,儀器的漂移或是真正存在漏孔。

  只有示漏物質離開后,儀器指示恢復原狀的,才是真正的漏孔。熱真空計檢漏,要在它的測量范 圍的真空度下,才能有效,即只適用于10-1—10-3 托的真空度范圍。

  它能檢出的最小 漏孔為1*10-5 托升/秒。

  電離計的反應比熱真空計快,但因示漏氣體在真空系統中建立足夠分壓需要較長時間,故巡噴速度亦不能太快。電離計能檢漏的壓力范圍,大致同于其測量范圍,故各種類型電離計各有其檢漏的壓力范圍。

  電離計能檢的最小可檢漏孔約為 1*10-6—1*10-7 托升 / 秒。

  在真空計檢漏中,即使示漏氣體對著漏孔噴吹,或者示漏液體涂于漏孔,實際上都不可避免要夾帶有空氣進去,即示漏物質并沒有徹底取代空氣。

  帶進去的空氣一方面沖淡了示漏物質的作用,另一方面還會引起不必要的讀數波動,因為混進的空氣分量時大時小。

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