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| 蒸發式真空鍍膜機是如何工作的？ |
| 發布時間：2014-07-08 瀏覽： 次 |
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通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。 此方法最早由英國物理學家M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。 蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。 蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。 膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。 從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。 蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。 以上是進口真空鍍膜設備維修專業人員愛加真空為大家提供的蒸發式真空鍍膜機的工作原理，希望能夠對大家有所幫助。
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